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Schwerpunkt-Hochleistungs-Antireflexschicht ARHS UV
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- Harte und kratzfeste Entspiegelungsschicht zur Verminderung der Reflexion und Erhöhung der Transmission für Hochleistungs-UV-Laser
- Garantierte Restreflexion an Schwerpunktwellenlänge λ0: < 0.2 % für Einfallswinkel 0° ≤ AOI ≤ 10° oder < 0.5 % für AOI = 45° (unpolarisiert)
- Zerstörschwelle H ∞ > 1.8 J/cm2 für 8.5 ns-Laserpulse (s-on-1) bei 266 nm und 100 Hz
- Design anpassbar im Spektralbereich von 180 nm ≤ λ ≤ 400 nm und für größere Einfallswinkel
- Substrate: Quarzglas, CaF2
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- Bitte geben Sie bei der Bestellung die gewünschte Zentralwellenlänge λ0 an.
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